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三星表示,其第9代V-NAND内存的比特密度比其第8代产品提高了约50%。凭借其最新的NAND技术,三星还能够消除虚拟通道孔,从而减少存储单元的平面面积。
最新的V-NAND还引入了更快的NAND闪存接口Toggle DDR 5.1,可将峰值数据传输速率提高33%,达到3.2 GT/s,即单个芯片的近400MB/秒。此外,据三星称,第9代V-NAND的功耗降低了10%。三星推出1Tb TLC V-NAND 之后,将于今年晚些时候发布四级单元(QLC)型号。
“我们很高兴能够推出业界首款第9代V-NAND,这将带来未来应用的飞跃,”三星电子存储器业务闪存产品与技术负责人SungHoi Hur说。“为了满足对NAND闪存解决方案不断变化的需求,三星为我们的下一代产品突破了单元架构和运营方案的界限。通过我们最新的V-NAND,三星将继续引领高性能、高密度固态硬盘(SSD)市场的趋势,以满足下一代人工智能的需求。